Equipment · 生产设备

MPCVD 生产设备

自主研发的微波等离子化学气相沉积设备体系,覆盖 3 英寸至 8 英寸晶圆制备能力,支撑单晶与多晶金刚石的规模化生长。

Capability · 能力概述

从装备到工艺的自主可控

设备与工艺同源开发,生长参数可直接反馈至材料规格与批量一致性控制。

01

装备自研

腔体结构、微波耦合与温场控制由公司自主设计并完成工程化验证。

02

工艺沉淀

不同尺寸与厚度对应的生长窗口形成参数库,支撑规格稳定复现。

03

产能协同

多台设备并行组织生产,按订单规格灵活分配产线资源。

产能与合作咨询

如需了解设备参数、产能安排或合作方式,欢迎与我们联系。